ASML1 [반도체 이야기] 포토 공정의 최신기술 EUV 와 ASML 의 미래 발전 목표 EUV (Extreme Ultra Violet, 극자외선) 기술? EUV 기술은 현재 개발된 포토(노광) 기술 중 가장 최신의 기술이며, EUV 가 적용된 설비는 없어서 못 파는 고부가가치의 기술입니다. TSMC, 삼성전자, SK 하이닉스, Intel 등등 각국의 내노라하는 기업들이 ASML 에 설비를 달라고 러브콜을 보내고 있습니다. 수천억을 내고서도 사겠다고 하는 이 EUV 기술과 설비는 어떤 원리일까요? EUV 발생 원리 EUV 즉, 극자외선은 CO2 laser 를 주석 방울에 쏘아 부딪치게 함으로써 높은 에너지의 플라즈마 상태를 발생, 이후 증가됐던(excited) 에너지가 낮아지며 발생시키는 13.5 nm 파장의 극자외선을 말합니다. 이렇게 laser 를 통해 발생된 플라즈마는 LPP (La.. 2022. 5. 26. 이전 1 다음
